一般稱電導(dǎo)率小于0.1μS/cm的純水為高純水。在工藝條件下制備的高純水，雜質(zhì)近乎為零。高純水電導(dǎo)率(或電阻率)是水質(zhì)要求關(guān)健指標(biāo)。
高純水制備的典型工藝流程如下：
源水→過(guò)濾→活性炭過(guò)濾器(或有機(jī)大孔樹(shù)脂吸附器)→反滲透器(或電滲析器)→陽(yáng)離子交換柱→陰離子交換柱→混合離子交換柱→有機(jī)物吸附柱→紫外燈殺菌器→精密過(guò)濾器→高純水。
制定高純水標(biāo)準(zhǔn)主要依據(jù)：
(1).微電子工藝對(duì)水質(zhì)的要求；
(2).制水工藝的發(fā)展水平；
(3).水中雜質(zhì)監(jiān)測(cè)技術(shù)的現(xiàn)狀等。
目前，在1G(及以上)位超大規(guī)模集成電路制造中，對(duì)高純水的技術(shù)要求很嚴(yán)。
電極常數(shù)標(biāo)定：用標(biāo)準(zhǔn)純水(已知電導(dǎo)率值)作為標(biāo)定溶液，標(biāo)定電極常數(shù)。標(biāo)定前用高純水把電極清洗干凈，并用慮紙吸干水分，再用標(biāo)定純水適量沖洗。
十分感謝高純水領(lǐng)域的工程師們?cè)跍y(cè)量應(yīng)用工藝方面的經(jīng)驗(yàn)、探索和創(chuàng)新。
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